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工藝偏差在更加先進(jìn)的工藝節點(diǎn)上別的尤為重要。最初使用工藝偏差方法學(xué)(on-chip variation，OCV)使用一個(gè)系數因子在整條時(shí)序路徑上放大縮小來(lái)模仿工藝變化，這種方法學(xué)過(guò)于悲觀(guān)。先進(jìn)的片上誤差方法學(xué)(advanced ocv，AOCV)可以在不同的時(shí)序路徑上不同的邏輯深度添加不同的系數因子來(lái)模擬工藝誤差。但是這種方法學(xué)分析的時(shí)間太長(cháng)，消耗的內存太多，并且分析的場(chǎng)景出現的概率很低。文中介紹一種在16nm下最新的一代時(shí)序分析技術(shù)-統計學(xué)片上誤差分析(statistic ocv，SOCV)。SOCV能夠模擬某種誤差使得延時(shí)出現的概率，因此SOCV較AOCV更為準確，能夠去除部分特別悲觀(guān)和特別樂(lè )觀(guān)的場(chǎng)景。SOCV耗時(shí)明顯要低于A(yíng)OCV，因此SOCV能加快sign-off的時(shí)間。